网友解答　　guan01cn
　　非晶硅用SnO2:F玻璃，目前主要是CVD方式制造，难度在于大面积沉积均匀性控制,国内还没有掌握技术。目前，国内只有漳州中国科技和普乐再做用CVD做SnO2:F玻璃。漳州中国科技已经有产品供给源畅试用，普乐的还在调试中。不过这两家公司的SnO2:F玻璃产量,远远满足不了国内市场的需求。如果采用溅射方式做SnO2玻璃，但因SnO2本征不导电，需要对靶材进行掺杂，具体要掺杂什么，掺杂多少，还在实验中。
　　非晶硅用TCO玻璃有4种 FTO(SnO2:F)、AZO、 ITO 、GZO。
　　FTO(SnO2:F)   (CVD)
　　CVD沉积SnO2:F,需要在玻璃软化状态下进行,FTO沉积所需的高能耗决定了FTO非晶硅生产商不能生产.另外大面积沉积均匀性的控制技术也限制了FTO的大批量生产.
　　AZO (sputter)
　　非晶硅前电极和背电极都有应用到AZO，但需要了解的是非晶硅所用的AZO，不是单纯的氧化锌铝。一定掺杂有第三元素，并且前电极和背电极所掺杂的元素是不相同的， 前电极和背电极对AZO膜层的要求也是不一样的。
　　ITO (Sputter)
　　ITO多用于弱光型非晶硅，因为ITO耐候性较差，PECVD沉积硅的时候，在500多°的高温状态下，ITO膜层的电阻会升高,透过率

也会下降。关于耐候行方面，AZO要比ITO好的多。
　　GZO(Sputter)