根据各大杂志、设备和电池制作公司网络、展会、及专业杂志发布的消息，有如下几种钝化工艺技术：

1.氧化硅钝化技术
　　在电池工业化初期，业内普遍使用氧化硅作为减反射膜和钝化膜。氧化硅钝化分为干氧和湿氧氧化。干氧氧化一般在950-1100度高温通氧气和TCA，在石英炉管实现氧化膜的生长。干氧氧化具有反应速度慢、温度高、生长的薄膜致密等特点。而湿氧氧化在800-950度高温通氧气和水汽在石英炉管实现氧化膜的生长，湿氧氧化具有速度快、温度低、生长薄膜较疏松的特点。不管是干氧氧化还是湿氧氧化，都是在氧化过程

中，硅不断被消耗，Si/SiO2界面逐渐向硅内部侵入，最终通过氧化硅的形成，原硅片表面的部分悬挂键被饱和。图一显示了干氧氧化和湿氧氧化生长薄膜厚度随时间和温度变化曲线，从图上可以看出，湿氧氧化工艺的工艺时间可大幅度缩短,热处理的温度可大幅度降低。